- English
- Español
- Português
- русский
- Français
- 日本語
- Deutsch
- tiếng Việt
- Italiano
- Nederlands
- ภาษาไทย
- Polski
- 한국어
- Svenska
- magyar
- Malay
- বাংলা ভাষার
- Dansk
- Suomi
- हिन्दी
- Pilipino
- Türkçe
- Gaeilge
- العربية
- Indonesia
- Norsk
- تمل
- český
- ελληνικά
- український
- Javanese
- فارسی
- தமிழ்
- తెలుగు
- नेपाली
- Burmese
- български
- ລາວ
- Latine
- Қазақша
- Euskal
- Azərbaycan
- Slovenský jazyk
- Македонски
- Lietuvos
- Eesti Keel
- Română
- Slovenski
- मराठी
- Srpski језик
Novinky z oboru
Proč jsou CVD SiC povlaky nutností pro MOCVD grafitové susceptory?
Při výrobě LED čipů slouží MOCVD epitaxe jako základní proces, který určuje světelnou účinnost. Během výroby grafitové susceptory nesoucí safírové nebo křemíkové substráty pracují v opakovaných tepelných cyklech při teplotách blízkých 1 000 °C v korozivní atmosféře. V souladu s tím výkonnost grafito......
Přečtěte si více
Jsou konzolová pádla z karbidu křemíku konečným řešením pro vysokoteplotní zpracování polovodičů
Vzhledem k tomu, že výroba polovodičů se neustále vyvíjí směrem k větším rozměrům plátků, vyšším teplotám zpracování a přísnějším požadavkům na kontrolu kontaminace, staly se konzolové pádla z karbidu křemíku nezbytnou součástí pokročilých systémů tepelného zpracování. Semicorex se specializuje na v......
Přečtěte si více
Základní aplikace keramických komponent z oxidu hlinitého v polovodičích
Jako přední pokročilá keramika pro polovodičové aplikace dosahuje keramika z oxidu hlinitého optimální rovnováhu mezi cenou, obrobitelností a celkovým výkonem. Vyznačují se vysokou tvrdostí, vynikající izolací, vynikající odolností proti korozi a nízkou tepelnou roztažností, plně splňují přísné poža......
Přečtěte si více
GPU NVIDIA Rubin plně přepněte na grafenové termální podložky
V květnu 2026 NVIDIA dokončila své rozhodnutí zcela opustit tekutý kov ve standardním Vera Rubin (1800-2000W TDP) a přejít na vysoce tepelně vodivé grafenové podložky pro hromadnou výrobu; verze Ultra high-end (2500-2850W) si zachová extrémní řešení tekutého kovu + mikrokanálové studené desky a ofic......
Přečtěte si více
Proč se sklíčidla z porézního oxidu hlinitého stávají preferovanou volbou pro přesnou výrobu polovodičů
Polovodičový průmysl nadále vyžaduje vyšší přesnost, čistší prostředí pro zpracování a vyšší efektivitu výroby. S rostoucí velikostí plátků a stále přísnějšími tolerancemi procesu se tradiční způsoby držení plátků často potýkají s požadavky moderní výroby. Zde se jako kritické řešení objevila sklíči......
Přečtěte si více
Technologie procesu leptání polovodičů
Leptání nebo leptání je zásadním krokem ve výrobě polovodičů, výrobě mikroelektronických integrovaných obvodů a mikro/nano výrobních procesech. Je to primární proces vzorování spojený s fotolitografií. V užším smyslu je leptání v podstatě fotolitografické leptání, kde se fotorezist nejprve exponuje ......
Přečtěte si více
