Barelové susceptory jsou kritickou komponentou používanou v různých procesech výroby polovodičů, jako je LPE, MOCVD. Semicorex nanáší karbid křemíku o vysoké čistotě v tenkých vrstvách na grafit pomocí procesu chemického nanášení z plynné fáze (CVD), díky čemuž je materiál polovodičové třídy s vynikající tepelnou stabilitou, chemickou odolností a odolností proti opotřebení, takže je ideální pro použití ve vysoce teplotní procesy.
â Vysoce čistý grafit potažený SiC
â Vynikající tepelná odolnost a chemická odolnost
â Vysoká tepelná rovnoměrnost
â Vynikající odolnost proti opotřebení
Semicorex CVD SiC Coated Barrel Susceptor je pečlivě navržená součástka přizpůsobená pro pokročilé procesy výroby polovodičů, zejména epitaxi. Naše produkty mají dobrou cenovou výhodu a pokrývají většinu evropských a amerických trhů. Těšíme se, že se staneme vaším dlouhodobým partnerem v Číně.
Přečtěte si víceOdeslat dotazSemicorex Barrel Susceptor Silicon Carbide Coated Graphite je specializovaná součást navržená pro použití v procesu epitaxe, zejména při přenášení plátků. Kontaktujte nás ještě dnes a zjistěte více o tom, jak vám můžeme pomoci s vašimi potřebami zpracování polovodičových destiček.
Přečtěte si víceOdeslat dotazSemicorex SiC Coated Barrel Susceptor pro LPE epitaxní růst je vysoce výkonný produkt navržený tak, aby poskytoval konzistentní a spolehlivý výkon po dlouhou dobu. Jeho rovnoměrný tepelný profil, laminární proudění plynu a prevence kontaminace z něj činí ideální volbu pro růst vysoce kvalitních epitaxních vrstev na waferových čipech. Jeho přizpůsobitelnost a hospodárnost z něj činí vysoce konkurenceschopný produkt na trhu.
Přečtěte si víceOdeslat dotazSemicorex Barrel Susceptor Epi System pro LPE Epitaxy je vysoce kvalitní produkt, který nabízí vynikající přilnavost povlaku, vysokou čistotu a odolnost proti oxidaci při vysokých teplotách. Jeho rovnoměrný tepelný profil, laminární proudění plynu a prevence kontaminace z něj činí ideální volbu pro růst epixiálních vrstev na waferových čipech. Jeho nákladová efektivita a přizpůsobitelnost z něj činí vysoce konkurenceschopný produkt na trhu.
Přečtěte si víceOdeslat dotazSemicorex Liquid Phase Epitaxy (LPE) Reactor System je inovativní produkt, který nabízí vynikající tepelný výkon, rovnoměrný tepelný profil a vynikající přilnavost povlaku. Jeho vysoká čistota, odolnost proti oxidaci při vysokých teplotách a odolnost proti korozi z něj činí ideální volbu pro použití v polovodičovém průmyslu. Jeho přizpůsobitelné možnosti a nákladová efektivita z něj činí vysoce konkurenční produkt na trhu.
Přečtěte si víceOdeslat dotazSemicorex CVD Epitaxial Deposition In Barrel Reactor je vysoce odolný a spolehlivý produkt pro pěstování epixiálních vrstev na waferových čipech. Jeho odolnost proti oxidaci při vysokých teplotách a vysoká čistota jej činí vhodným pro použití v polovodičovém průmyslu. Jeho rovnoměrný tepelný profil, laminární proudění plynu a prevence kontaminace z něj činí ideální volbu pro vysoce kvalitní růst epixiální vrstvy.
Přečtěte si víceOdeslat dotaz