Čína Speciální grafit Výrobci, dodavatelé, továrna

Specializovaný grafit je druh umělého grafitu, který se zpracovává. Je to důležitý materiál, který je nezbytný ve všech aspektech polovodičového a fotovoltaického výrobního procesu, včetně růstu krystalů, implantace iontů, epitaxy atd.

1. Růst krystalů křemíku (SIC)

Karbid křemíku, jako polovodičový materiál třetí generace, se široce používá v nových energetických vozidlech, komunikacích 5G a dalších oborech. V procesu růstu krystalů 6 palců a 8 palců se izostatický grafit primárně používá k výrobě následujících klíčových komponent:

Graphite Crucible: To lze použít k syntetizaci suroviny sic prášku a také pomáhat při růstu krystalů při vysokých teplotách. Jeho vysoká čistota, vysoká teplota odolnost a odolnost tepelných šoků zajišťují stabilní prostředí růstu krystalů.

Grafitový ohřívač: Poskytuje jednotné rozdělení tepla a zajišťuje vysoce kvalitní růst krystalů SIC.

Izolační trubice: Tím se udržuje teplotní uniformita v peci růstu krystalů a snižuje tepelné ztráty.

2. implantace iontů

Implantace iontů je klíčovým procesem při výrobě polovodičů. Isostatický grafit se primárně používá k výrobě následujících komponent v iontových implantech:

Graphite Getter: To absorbuje ionty nečistoty v iontovém paprsku a zajišťuje čistotu iontů.

Prsten zaostření grafitu: Tím se zaměřuje iontový paprsek a zlepšuje přesnost a účinnost implantátu iontu. Podnosy grafitového substrátu: Používá se k podpoře křemíkových oplatků a udržení stability a konzistence během implantace iontu.

3. proces epitaxy

Proces epitaxy je kritickým krokem ve výrobě polovodičových zařízení. Isostaticky lisovaný grafit se primárně používá k výrobě následujících komponent v epitaxových pecích:

Grafitové podnosy a susceptory: Používá se k podpoře křemíkových destiček, poskytování stabilní podpory a jednotného vedení tepla během procesu epitaxy.

4. Další aplikace pro výrobu polovodičů

Isostaticky lisovaný grafit se také široce používá v následujících polovodičových výrobních aplikacích:

Proces leptání: Používá se k výrobě grafitových elektrod a ochranných součástí pro leptání. Jeho odolnost proti korozi a vysoká čistota zajišťují stabilitu a přesnost v procesu leptání.

Chemická depozice par (CVD): Používá se k výrobě grafitových zásobníků a topných topných v pecích CVD. Jeho vysoká tepelná vodivost a vysokoteplotní odolnost zajišťují jednotné depozice tenkého filmu.

Testování balení: Používá se k výrobě zkušebních příslušenství a nosičů. Jeho vysoká přesnost a nízká kontaminace zajišťují přesné výsledky testu.

Výhody grafitových částí

Vysoká čistota:

Pomocí isostaticky stisknutého grafitového materiálu s velmi nízkým obsahem nečistot splňuje přísné požadavky na čistotu materiálu při výrobě polovodičů. Vlastní čisticí pec společnosti může čistit grafit pod 5ppm.

Vysoká přesnost:

S pokročilým zařízením pro zpracování a technologií zralého zpracování zajišťuje, že rozměrová přesnost produktu a tolerance formy a polohy dosáhne úrovně mikronu.

Vysoký výkon:

Produkt má vynikající odolnost proti vysoké teplotě, odolnost proti korozi, odolnost proti záření, vysokou tepelnou vodivost a další vlastnosti, které splňují různé drsné pracovní podmínky výroby polovodičů.

Přizpůsobená služba:

Přizpůsobené služby pro návrh a zpracování produktu lze poskytovat podle potřeb zákazníků, aby vyhovovaly potřebám různých aplikačních scénářů.

Typy grafitových produktů

(1) Isostatický grafit
Isostatické grafitové produkty jsou produkovány studeným izostatickým lisováním. Ve srovnání s jinými metodami formování mají kelímky produkované tímto procesem vynikající stabilitu. Grafitové produkty potřebné pro SIC jednotlivé krystaly mají velké velikosti, což povede k nerovnoměrné čistotě na povrchu a uvnitř grafitových produktů, které nemohou splňovat požadavky na použití. Aby bylo možné splnit požadavky na hluboké čištění u velkých grafitových produktů, které jsou potřebné pro sic jedno krystaly, měl by být přijat jedinečný vysokoteplotní termochemický proces čištění pulsů, aby se dosáhlo hlubokého a jednotného čištění velkých nebo speciálních grafitových produktů, aby čistota povrchu produktu a jádra mohla splňovat požadavky na použití.

(2) porézní grafit
Porézní grafit je typ grafitu s vysokou porozitou a nízkou hustotou. V procesu růstu krystalů SIC hraje porézní grafit významnou roli při zlepšování uniformity přenosu hmoty, snižování rychlosti výskytu fázové změny a zlepšení tvaru krystalu.
Použití porézního grafitu zlepšuje uniformitu teploty a teploty v oblasti suroviny, zvyšuje rozdíl axiální teploty v kelímku a má také určitý účinek na oslabení rekrystalizace povrchu suroviny; V růstové komoře porézní grafit zlepšuje stabilitu toku materiálu v průběhu procesu růstu, zvyšuje poměr C/SI v oblasti růstu, pomáhá snižovat pravděpodobnost změny fáze a zároveň porézní grafit hraje také roli při zlepšování krystalového rozhraní.

(3) cítit
Měkký plstěný a tvrdě cítil, jak hrají roli důležitých tepelných izolačních materiálů v růstu krystalických krystalů a epitaxiálních spojeních.

(4) grafitová fólie
Grafitový papír je funkční materiál vyrobený z grafitu vločky s vysokým obsahem uhlíku prostřednictvím chemického ošetření a vysokoteplotního válce. Má vysokou tepelnou vodivost, elektrickou vodivost, flexibilitu a odolnost proti korozi.

(5) Kompozitní materiály
Tepelné pole uhlíkového uhlíku je jedním z jádrových spotřebních materiálů ve výrobě fotovoltaické jednokrystalové pece.

Semicorex Production

Semicorex vytváří grafit s malými šaržemi přizpůsobenými produkčními metodami. Díky malému dávkovému výrobu jsou výrobky kontrolovatelné. Celý proces je řízen programovatelnými logickými řadiči (PLC), podrobná data procesu byla zaznamenána, což umožnilo úplnou sledovatelnost životního cyklu.

Během celého procesu pražení je konzistence dosažená v odporu na různých místech a udržována těsná kontrola teploty. To zajišťuje homogenitu a spolehlivost grafitových materiálů.

Semicorex využívá plně izostatickou lisovací technologii, která se liší od ostatních dodavatelů; To znamená, že grafit je sám o sobě velmi uniforma a je prokázán obzvláště důležitý v epitaxiálních procesech. Byly provedeny komplexní testy uniformity materiálu, včetně hustoty, odporu, tvrdosti, ohybové síly a síly napříč různými vzorky.