Keramické elektrostatické sklíčidlo

Keramické elektrostatické upínačejsou přesné součásti, které využívají elektrostatické pole generované mezi elektrodami a destičkami k upnutí a upevnění destiček. Jsou široce používány v oblastech, jako jsou polovodiče, ploché panely a optika, a jsou základními součástmi špičkových zařízení, jako jsou PVD zařízení, leptací stroje a iontové implantátory.

Ve srovnání s tradičními mechanickými upínači a vakuovými sklíčidly mají keramická elektrostatická upínače mnoho výhod v oblasti výroby polovodičů. Toto keramické elektrostatické sklíčidlo využívá statickou elektřinu ke zploštění a rovnoměrnému držení destiček na svém povrchu. Tato stejnoměrná adsorpční síla může udržovat adsorbovaný předmět relativně plochý a vyhnout seoplatkadeformace nebo deformace, které mohou být způsobeny tradičními mechanickými upínači nebovakuová sklíčidlaa zajištění, že si wafer zachová přesnost zpracování vhodnou pro vysoce přesné polovodičové procesy.

Některá keramická elektrostatická sklíčidla mají integrované funkce ohřevu, které mohou přesně řídit teplotu plátku pomocí zpětného foukání plynu nebo vnitřních topných elektrod, přizpůsobit se přísným teplotním požadavkům různých procesů a zlepšit stabilitu zpracování.

Na rozdíl od mechanických sklíčidel keramická elektrostatická sklíčidla redukují mechanické pohyblivé části, snižují dopad částicových nečistot na kvalitu destičky, účinně chrání čistotu povrchu destičky a zlepšují výtěžnost produktu.

Keramické elektrostatické upínače nabízejí širokou kompatibilitu. Mohou obsahovat destičky různých velikostí a materiálů, včetně křemíku, arsenidu galia a karbidu křemíku, a splňují tak různé potřeby výroby polovodičů.

Mohou stabilně pracovat v prostředí s vysokým vakuem, jako je iontová implantace a CVD, překonávat omezení tradičních vakuových upínačů, které nemohou absorbovat destičky ve vakuovém prostředí, a dokonale splňují procesní požadavky iontové implantace, chemické depozice z plynné fáze (CVD) a dalších procesů ve výrobě polovodičů.