Vysoce čistý grafitový prášek

Semicorex Vysoká čistotagrafitprášek je kritickým materiálem v polovodičovém průmyslu. Díky výjimečné úrovni čistoty a vynikajícím fyzikálním a chemickým vlastnostem je tento materiál nepostradatelný pro aplikace vyžadující přísné výkonové normy.

Klíčové vlastnosti

• Výjimečná čistota: Vysoce čistý grafitový prášek obvykle dosahuje obsahu uhlíku přesahujícího 99,9 %, což zajišťuje minimální kontaminaci během procesu růstu krystalů. Tato úroveň čistoty je nezbytná pro zachování integrity a kvality polovodičových destiček.
• Vynikající tepelná vodivost: Vynikající tepelná vodivost materiálu umožňuje rovnoměrné rozložení tepla, což je zásadní pro udržení kontrolovaného prostředí pro růst polovodičových krystalů.
• Odolnost vůči vysokým teplotám: Vysoce čistý grafitový prášek vydrží extrémní teploty bez degradace, takže je ideální pro vysokoteplotní pece používané při výrobě polovodičů.
• Chemická stabilita: Jeho odolnost vůči chemickým reakcím zajišťuje trvanlivost a spolehlivost při dlouhodobém vystavení drsným podmínkám, včetně vysokých teplot a reaktivních prostředí.
• Přizpůsobitelná velikost částic: Prášek je k dispozici v různých velikostech částic a lze jej upravit tak, aby vyhovoval specifickým potřebám různých procesů růstu polovodičových krystalů.

Aplikace v oblasti růstu polovodičových krystalů

1. Růst krystalů SiC:

Vysoce čistý grafitový prášek se široce používá při růstu krystalů karbidu křemíku (SiC), což je proces zásadní pro výrobu pokročilých polovodičových součástek. Prášek se používá při výrobě porézních grafitových komponentů, jako jsou kelímky a izolační materiály, které podporují růst vysoce kvalitních krystalů SiC. Jeho vysoká čistota minimalizuje nečistoty, čímž zlepšuje elektrické a tepelné vlastnosti výsledných krystalů.

2. Růst fotovoltaických křemíkových krystalů:

Ve fotovoltaickém průmyslu se vysoce čistý grafitový prášek používá při výrobě komponent pro růst monokrystalů a polykrystalických křemíků. Tyto komponenty, jako jsou formy a ohřívače, zajišťují stálou kvalitu a výtěžnost při výrobě křemíkových plátků pro solární články.

3. Nanesení epitaxní vrstvy:

Materiál je také nedílnou součástí epitaxních procesů, kde jsou vyžadovány přesné tepelné a chemické podmínky pro růst vrstev polovodičového materiálu. Vysoce čistý grafitový prášek přispívá k výrobě komponent epitaxe, jako jsou susceptory, které vyžadují výjimečný tepelný a chemický výkon.

4. Tepelná izolace na bázi grafitu:

Ve vysokoteplotních pecích používaných pro růst krystalů se grafitový prášek používá k vytvoření izolačních materiálů, které udržují stabilní tepelné prostředí. To zvyšuje efektivitu procesu a zajišťuje jednotnost rostoucích krystalů.

Vysoká čistota Semicorexugrafitprášek vyniká svou bezkonkurenční kvalitou a designem řízeným aplikací. Naše přísné výrobní procesy zajišťují konzistenci, vysokou čistotu a přizpůsobené specifikace tak, aby splňovaly náročné požadavky polovodičového průmyslu.

Semicorex Vysoce čistý grafitový prášek je základním materiálem pro růst polovodičových krystalů, který nabízí bezkonkurenční výkon v náročných aplikacích. Jeho výjimečné tepelné, chemické a strukturální vlastnosti zajišťují úspěšnou výrobu pokročilých polovodičových součástek. Se svým závazkem k inovaci a kvalitě poskytuje Semicorex důvěryhodné řešení pro výrobce, kteří chtějí dosáhnout dokonalosti v polovodičových procesech.