Keramické ohřívače

V procesu front-end (FEOL) výroby polovodičůoplatkaMusí být podrobeno různým procesním ošetřením, zejména oplatky musí být zahřívána na určitou teplotu a existují přísné požadavky, protože uniformita teploty má velmi důležitý dopad na výnos produktu; Zároveň musí polovodičové vybavení pracovat v přítomnosti vakua, plazmy a chemických plynů, což vyžaduje použití keramických ohřívačů.Keramické ohřívačejsou důležitými součástmi polovodičového zařízení pro depozice tenkého filmu. Používají se v procesní komoře a přímo kontaktují oplatku, aby přenesly a umožnily oplatku získat stabilní a jednotnou teplotu procesu a reagovat s vysokou přesností na povrchu oplatky pro generování tenkých filmů.

Protože zařízení pro depozice tenkého filmu používané keramickými ohřívači zahrnuje vysoké teploty, obecně se používají keramické materiály založené hlavně na nitridu hliníku (ALN). Protože nitrid hlinitý má elektrickou izolaci a vynikající tepelnou vodivost; Kromě toho je jeho koeficient tepelné roztažnosti blízký koeficitu křemíku a má vynikající odolnost proti plazmě, je velmi vhodný pro použití jako složka polovodičového vybavení.

Elektrostatické sklíčivo (ESC) se používají hlavně v leptacím zařízení, zejména oxidu hliníku (AL2O3). Vzhledem k tomu, že samotné elektrostatické sklíčivo také obsahuje topení, přičemž příklad je suché leptání, je nutné ovládat oplatku při specifické teplotě v rozmezí -70 ~ 100 ℃, aby se udržela určitá charakteristika leptání. Proto musí být oplatka zahřívána nebo rozptýlena elektrostatickým sklíčivem, aby se přesně řídila teplotu oplatky. Kromě toho, aby byla zajištěna jednotnost povrchu oplatky, musí elektrostatické sklíčidlo často zvýšit zónu kontroly teploty, aby se zlepšila teplota každé zóny kontroly teploty, aby se zlepšil výnos procesu. Samozřejmě s vývojem technologie se rozlišování mezi tradičními keramickými ohřívači a elektrostatickými sklíčinami začalo rozmazávat. Některé keramické ohřívače mají dvojí funkce vysokoteplotního vytápění a elektrostatické adsorpce.

Keramický topení zahrnuje keramickou základnu, která nese oplatku a válcové podpůrné tělo, které jej podporuje na zádech. Uvnitř nebo na povrchu keramické báze, kromě rezistenčního prvku (topná vrstva) pro zahřívání, je zde také rádiová frekvenční elektroda (rádiová frekvenční vrstva). Aby se dosáhlo rychlého zahřívání a chlazení, měla by být tloušťka keramické základny tenká, ale příliš tenká také sníží rigiditu. Podpůrné tělo ohřívače je obecně vyrobeno z materiálu s koeficientem tepelné roztažnosti podobný koeficitu základny, takže podpůrné tělo je často také vyrobeno z nitridu hliníku. Ohřívač přijímá jedinečnou strukturu kloubu hřídele (hřídele) na dně, která může chránit svorky a dráty před účinky plazmy a korozivních chemických plynů. V přívodním těle a výstupní potrubí je v podpůrném tělesu zajištěno jednotné teploty ohřívače. Základna a podpůrné tělo jsou chemicky spojeny s vazebnou vrstvou.

Semicorex nabízí vysoce kvalitníkeramické ohřívače. Pokud máte nějaké dotazy nebo potřebujete další podrobnosti, neváhejte se s námi spojit.

Kontaktní telefon # +86-13567891907

E -mail: sales@semicorex.com