- English
- Español
- Português
- русский
- Français
- 日本語
- Deutsch
- tiếng Việt
- Italiano
- Nederlands
- ภาษาไทย
- Polski
- 한국어
- Svenska
- magyar
- Malay
- বাংলা ভাষার
- Dansk
- Suomi
- हिन्दी
- Pilipino
- Türkçe
- Gaeilge
- العربية
- Indonesia
- Norsk
- تمل
- český
- ελληνικά
- український
- Javanese
- فارسی
- தமிழ்
- తెలుగు
- नेपाली
- Burmese
- български
- ລາວ
- Latine
- Қазақша
- Euskal
- Azərbaycan
- Slovenský jazyk
- Македонски
- Lietuvos
- Eesti Keel
- Română
- Slovenski
- मराठी
- Srpski језик
Novinky společnosti
Plazmové procesy v CVD operacích
Chemická depozice z plynné fáze (CVD) označuje procesní technologii, při které více plynných reaktantů při různých parciálních tlacích podléhá chemické reakci za specifických teplotních a tlakových podmínek. Výsledná pevná látka se ukládá na povrchu podkladového materiálu, čímž se získá požadovaný t......
Přečtěte si více
Silikonové epitaxní vrstvy a substráty ve výrobě polovodičů
V moderní elektronice, optoelektronice, mikroelektronice a informačních technologiích jsou polovodičové substráty a epitaxní technologie nepostradatelné. Poskytují pevný základ pro výrobu vysoce výkonných a vysoce spolehlivých polovodičových zařízení. Jak technologie pokračuje vpřed, budou se vyvíje......
Přečtěte si více
První 6palcová společnost zabývající se industrializací substrátu oxidu galia
Nedávno naše společnost oznámila, že společnost úspěšně vyvinula 6palcový monokrystal oxidu galia metodou odlévání a stala se tak první tuzemskou průmyslovou společností, která zvládla technologii přípravy substrátu z monokrystalu oxidu galia.
Přečtěte si více
Tepelně izolační materiál
Proces růstu monokrystalického křemíku probíhá převážně v tepelném poli, kde kvalita tepelného prostředí významně ovlivňuje kvalitu krystalů a účinnost růstu. Konstrukce tepelného pole hraje klíčovou roli při formování teplotních gradientů a dynamiky proudění plynu v komoře pece. Navíc materiály pou......
Přečtěte si více
