SOI křemík na izolátoru

Semicorex SOI Wafer Silicon On Insulator je specializovaný typ polovodičového waferu používaného při výrobě pokročilých integrovaných obvodů. Jsou navrženy tak, aby zlepšily výkon, energetickou účinnost a spolehlivost elektronických zařízení. Semicorex se zavázal poskytovat kvalitní produkty za konkurenceschopné ceny, těšíme se, že se staneme vaším dlouhodobým partnerem v Číně.

Odeslat dotaz

Popis výrobku

SOI Wafer Silicon On Insulator, také známý jako Silicon-On-Insulator wafer, je typ polovodičového waferu, který se široce používá při výrobě pokročilých integrovaných obvodů (IC). Nabízí několik výhod oproti tradičním objemovým křemíkovým plátkům, díky čemuž je oblíbenou volbou v polovodičovém průmyslu.

Struktura SOI Wafer Silicon On Insulator se skládá ze tří hlavních vrstev: tenká vrstva křemíku (vrstva zařízení), vrstva izolačního materiálu (krabice) a základní vrstva křemíku (rukojeť).

Izolační vrstva v SOI Wafer Silicon On Insulator nabízí několik výhod. Za prvé, snižuje parazitní kapacitu mezi tranzistory, což má za následek lepší výkon obvodu a vyšší rychlost provozu. Tato snížená kapacita také pomáhá při snižování spotřeby energie, díky čemuž jsou SOI zařízení vhodná pro energeticky efektivní aplikace.

Kromě toho izolační vrstva zajišťuje elektrickou izolaci mezi aktivními zařízeními, snižuje přeslechy a zlepšuje integritu signálu ve vysokofrekvenčních obvodech. To je zvláště výhodné v radiofrekvenčních (RF) a analogových aplikacích, kde je kvalita signálu kritická.

Další výhodou SOI Wafer Silicon On Insulator je jejich radiační tvrdost. Izolační vrstva působí jako přirozený štít proti účinkům vyvolaným zářením, díky čemuž jsou SOI zařízení odolnější vůči radiačnímu poškození. Tato vlastnost činí technologii SOI vhodnou pro letecký, jaderný a další vysoce radiační prostředí.