Komponenty potažené TaC v epitaxním růstu

Semicorex TaC Coated Components in Epitaxial Growth je drahocenný obrobený díl umístěný v přívodu vzduchu v epitaxním procesu v polovodičích. Semicorex je špičková společnost, která se specializuje na technologii CVD TaC povlaků v Číně a vyváží produkty do celého světa.*

Odeslat dotaz

Popis výrobku

Komponenty potažené Semicorexem TaC v epitaxním růstu jsou pravoúhlým trubkovým dílem, který je zodpovědný především za průběh nasávání vzduchu v CVD peci. Je to tedy základní součást a vzhledem k přísnému prostředí je teplota vysoká a také tam jsou korozivní plyny. Uvádí důvod, proč jsme zvolili grafit potažený TaC.

VýhodyPovlak z karbidu tantalu (TaC).

Povlaky z karbidu tantalu (TaC) jsou vyžadovány pro některé z nejkritičtějších částí systémů sání vzduchu, které jsou navrženy pro použití v drsných podmínkách, jako jsou ty, které se nacházejí v peci s chemickou depozicí z plynné fáze (CVD). Vysoká teplota a vystavení korozivním plynům v CVD peci vytváří velmi náročné pracovní prostředí. Díky svému potenciálu poskytovat vynikající chemickou inertnost a odolávat korozi a degradaci, použití povlaků TaC na komponentách potažených TaC při epitaxním růstu výrazně sníží potenciál pro vytváření defektních částic, a proto prodlužuje životnost komponenty a poskytuje nejvyšší výtěžnost a kvalitu nashromážděných epitelových filmů.

Vynikající technologie povlakování

Semicorex využívá k výrobě pokročilou technologii CVDKomponenty potažené TaC v epitaxním růstusplnit dnešní nejnáročnější průmyslové standardy pro výkon i kvalitu. Přesnost, se kterou Semicorex vyrábí povlaky TaC, je zřejmá z vysoké kvality vyrobených povlaků.

Funkce	Výhoda Semicorex	Dopad na zákazníka
Výborná přilnavost	Optimalizovaný proces depozice vytváří silnou, rovnoměrnou chemickou vazbu mezi vrstvou TaC a grafitovým substrátem.	Žádná delaminace nebo odlupování při tepelném cyklování, což zajišťuje dlouhodobou spolehlivost.
Jednotnost povrchu	Přesná kontrola tloušťky a homogenity povlaku na všech vnitřních a vnějších površích obdélníkové trubky.	Konzistentní dynamika proudění a tepelný výkon, zásadní pro opakovatelné nasávání vzduchu.
Vysoká čistota povlaku	K dosažení výjimečně čisté vrstvy TaC používáme vysoce čisté prekurzory a pečlivý proces.	Minimalizovaná kontaminace stopovými kovy a nečistotami, které mohou ovlivnit kvalitu narostlého epitaxního filmu.

Optimalizovaný výběr substrátu

Výkon potaženého dílu je zásadně vázán na kvalitu jeho substrátu. Výběr nejvhodnějšího grafitového základního materiálu pro obdélníkové trubky Semicorex potažené TaC pečlivě provádí náš inženýrský tým podle řady důležitých kritérií, která jsou následující:

Stupeň grafitu vybíráme na základě jeho fyzikálních vlastností, abychom dosáhli nejpevnější vazby mezi povlakem TaC a grafitovým substrátem. To zajišťuje maximální přilnavost povlaku TaC ke grafitovému substrátu.

Grafit používaný k výrobě našich obdélníkových trubek potažených TaC musí mít extrémně vysokou čistotu, aby se minimalizovala možnost odplynění a kontaminace během našeho vysokoteplotního procesu CVD.

Naše přísné procesy získávání zdrojů a kontroly kvality zajišťují, že každá šarže grafitového substrátu, kterou používáme, má stejné materiálové vlastnosti. To nám umožňuje pokaždé vyrobit obdélníkovou trubku potaženou TaC se stejnými výkonnostními charakteristikami.

Osvědčená spolehlivost a partnerství

Naše komponenty potažené TaC v epitaxním růstu byly rozsáhle testovány a schváleny mnoha největšími a nejrespektovanějšími výrobci v polovodičovém průmyslu. Tito výrobci zavedli produkty Semicorex jako spolehlivé standardy pro použití v kritických aplikacích epitaxního růstu.

Uvědomujeme si, že dodávka komponentů je významnou součástí vašeho výrobního procesu. To je důvod, proč se Semicorex zavázal být dlouhodobým partnerem tím, že bude dodávat vysoce kvalitní a spolehlivé dodávky produktů a vyniká v poskytování logistiky a poprodejní podpory, aby vaše podnikání plynulo hladce a bez přerušení.