Planetová deska potažená TaC

Planetární deska s povlakem Semicorex TaC slouží jako klíčová součást v reaktorech MOCVD a vykazuje planetární design charakterizovaný četnými kapsami plátků uspořádanými podél jejího povrchu. Tyto kapsy jsou speciálně vytvořeny tak, aby spolehlivě pojaly destičky během růstové fáze jakékoli epitaxní vrstvy, stabilizovaly destičky substrátu a minimalizovaly pohyb substrátu za zvýšených procesních teplot. Přesná geometrie kapsy poskytuje konzistentní umístění plátků, které je důležité pro stejnoměrnou tloušťku epitaxních vrstev a stejnoměrné úrovně defektů substrátu pro všechny plátky vyrostlé během stejného procesu.

Důležitým konstrukčním aspektem planetové desky je opět vytvořený rozptyl otvorů pro proudění jemného plynu podél povrchu desky. Tyto otvory jsou pečlivě navrženy a strategicky umístěny speciálně pro měření toku prekurzorových plynů v reaktoru, takže je dosaženo rovnoměrného rozptylu plynu a rovnoměrného usazování mezi každým plátkem. V jakémkoli procesu MOCVD jsou aspekty dynamiky plynů kritické při určování kvality filmu, rovnoměrnosti tloušťky a celkového výkonu zařízení. Optimalizovaný design otvoru naPotaženo TaCPlanetary Plate zajišťuje, že všechny wafery mají stejné procesní podmínky, což poskytuje optimální způsob, jak zlepšit výtěžnost a reprodukovatelnost.

ThePovlak TaC (karbid tantalu).dále prodlužuje výkon a životnost planetové desky. Karbid tantalu je extrémně tvrdý, chemicky inertní a tepelně vodivý, což z něj činí vynikající povlak pro extrémní prostředí MOCVD. Během epitaxe se komponenty v reaktoru setkají s vysokými teplotami, reaktivními prekurzorovými plyny a vystavením plazmě. Povlak TaC slouží jako robustní bariéra proti korozi, oxidaci a tvorbě částic, což vede k významnému prodloužení životnosti planetové desky než u desky bez povlaku nebo desky s konvenčním povlakem.

Potaženo TaC Planetary Plate je díky své dlouhé životnosti a odolnosti cenově výhodnou volbou pro systémy MOCVD. Odolná vrstva TaC může odolat opakovaným tepelným cyklům a vystavení extrémním procesním plynům při zachování strukturální integrity a stability výkonu při provozu po delší časové rámce.