30mm substrát z nitridu hliníku

Jedinečné vlastnosti Semicorex 30mm Aluminium Nitride Wafer Substrate z něj dělají ideální substrát pro ultrafialové (UV) LED, UV detektory, UV lasery a další generaci 5G vysokovýkonných/vysokofrekvenčních RF zařízení. V bezdrátové komunikaci vlastnosti 30mm hliníkového nitridového waferového substrátu usnadňují vývoj zařízení schopných zpracovávat vysoký výkon a frekvence nezbytné pro technologie 5G, čímž zlepšují přenos a příjem signálu. Kromě toho se v oblastech, jako je zdravotnictví a vojenství, zařízení na bázi AlN používají v lékařské fototerapii pro léčbu kožních onemocnění, objevování léků prostřednictvím fotodynamických terapií a bezpečných komunikačních technologiích v letectví a kosmonautice, což podtrhuje všestrannost 30mm hliníkového nitridového plátkového substrátu a zásadní roli v technologickém pokroku napříč celým světem. různých odvětvích.

Odeslat dotaz

Popis výrobku

Substrátové substráty Semicorex 30mm Aluminium Nitride Wafer Substrate se mohou pochlubit pozoruhodnými vlastnostmi nezbytnými pro pokročilé polovodičové aplikace. Jejich široká pásmová mezera umožňuje zařízením pracovat při vysokém napětí a teplotách a zároveň minimalizovat elektrické úniky, což je klíčové pro výkonovou elektroniku. Vysoká tepelná vodivost 30mm hliníkového nitridového waferového substrátu je klíčová pro řízení tepla generovaného ve vysoce výkonných zařízeních, čímž účinně zvyšuje spolehlivost a výkon zařízení. Kromě toho pole s vysokým průrazem 30mm substrátu z nitridu hliníku umožňuje zařízení, která vydrží vysoká elektrická pole bez průrazu, což je ideální pro aplikace vyžadující vysokou hustotu výkonu a účinnost.

30mm substráty z nitridu hliníku vykazují vysokou mobilitu elektronů, což znamená rychlejší elektronická zařízení s lepší frekvenční odezvou. Tato vlastnost je zvláště výhodná při výrobě radiofrekvenčních (RF) zařízení a vysokorychlostní elektroniky, kde je vyžadován rychlý přenos a zpracování signálu. Odolnost 30mm hliníkového nitridového plátkového substrátu proti korozi a záření z něj navíc dělá výjimečnou volbu pro drsná prostředí, jako jsou vesmírné aplikace, kde jsou materiály vystaveny korozivním plynům a vysokým úrovním radiace. Tato odolnost zajišťuje dlouhodobou spolehlivost a funkčnost zařízení v extrémních podmínkách, díky čemuž je 30mm hliníkový nitridový waferový substrát optimálním substrátem pro optoelektronická zařízení a vysokovýkonné/vysokofrekvenční elektronické součástky.

V současné době nabízíme našim klientům standardizované vysoce kvalitní monokrystalické substráty z nitridu hliníku o rozměrech 10x10mm, Φ10mm, Φ15mm, Φ20mm, Φ25,4mm, Φ30mm a Φ50,8mm. Kromě toho dodáváme také nepolární monokrystalické substráty z nitridu hliníku s povrchem M v rozsahu 10-20 mm. Pro potřeby šité na míru můžeme upravit leštící plátky monokrystalického substrátu z nitridu hliníku v rozmezí od 5 mm do 50,8 mm. Tato široká škála nabídek uspokojuje nepřeberné množství potřeb klientů a umožňuje prozkoumání různých technologických hranic.