ALN Ohřívače

Semicorex ALN ohřívače pro polovodič je zařízení používané pro vytápění polovodičových materiálů. Je to hlavně zKeramika nitridu hlinitéhomateriál, má vynikající tepelnou vodivost a odolnost proti vysoké teplotě a může fungovat stabilně při vysokých teplotách. Ohřívač obvykle používá odporný drát jako topný prvek. Povzdání odporového vodiče k zahřívání se teplo přenáší na povrch topení, aby bylo dosaženo zahřívání polovodičového materiálu. Ohřívače ALN pro polovodič hrají důležitou roli v procesu výroby polovodičů a lze je použít v procesech, jako je růst krystalů, žíhání a pečení.

V procesu front-end (FEOL) polovodičové výroby musí být na oplatce prováděny různé procesní ošetření, zejména zahřívání oplatky na určitou teplotu, a existují přísné požadavky, protože uniformita teploty má velmi důležitý vliv na výnos produktu; Zároveň musí polovodičové vybavení pracovat také v prostředí, kde existují vakuové, plazmatické a chemické plyny, což vyžaduje použití keramických ohřívačů (keramický ohřívač). Keramické ohřívače jsou důležitými součástmi polovodičového uložení tenkého filmu. Používají se v procesní komoře a přímo kontaktují oplatku, aby přenesly a umožnily oplatku získat stabilní a jednotnou teplotu procesu a reagovat a generovat tenké filmy na povrchu oplatky s vysokou přesností.

Depoziční zařízení pro keramické ohřívače obecně používají keramické materiály založenéHliníkový nitrid (ALN)Kvůli vysokých teplotách. Nitrid z hliníku má elektrickou izolaci a vynikající tepelnou vodivost; Kromě toho je jeho koeficient tepelné roztažnosti blízký koeficitu křemíku a má vynikající odolnost proti plazmě, což je velmi vhodné pro použití jako komponenta polovodičového zařízení.

Ohřívače ALN zahrnují keramickou základnu, která nese oplatku, a válcové podpůrné tělo, které jej podporuje na zádech. Uvnitř nebo na povrchu keramické báze, kromě rezistenčního prvku (topné vrstvy) pro zahřívání, je zde také RF elektroda (RF vrstva). Aby se dosáhlo rychlého zahřívání a chlazení, měla by být tloušťka keramické základny tenká, ale příliš tenká také sníží rigiditu. Podpůrné tělo ohřívačů ALN je obecně vyrobeno z materiálu s koeficientem tepelné roztažení podobnému koeficientu základny, takže podpůrný tělo je často také vyrobeno z nitridu hliníku. Ohřívače ALN přijímají jedinečnou strukturu dna kloubu hřídele (hřídele), aby chránily terminály a dráty před účinky plazmy a korozivních chemických plynů. V podpůrném těle je poskytován vstup plynu a výstupní potrubí pro přenos tepla, aby byla zajištěna jednotná teplota topení. Základna a podpůrné tělo jsou chemicky spojeny s vazebnou vrstvou.

V základně ohřívače je pohřben ohřívací prvek odporu. Vytváří se na obrazovce s vodivou pastou (wolfram, molybden nebo tantalum), aby vytvořil vzor spirály nebo soustředný kruh. Kovový drát, kovová síť, kovová fólie atd. Lze také použít. Při použití metody tisku na obrazovce se připravují dvě keramické destičky stejného tvaru a vodivá pasta se aplikuje na povrch jednoho z nich. Poté je slinný, aby vytvořil odporový topný prvek a druhá keramická deska se překrývá s odporovým topným prvkem, aby byl v základně pohřben rezistorový prvek.

Hlavními faktory ovlivňujícími tepelnou vodivost hliníkové nitridové keramiky je hustota mřížky, obsah kyslíku, čistota prášku, mikrostruktura atd., Které ovlivní tepelnou vodivost keramiky nitridu hlinitého.