Susceptor s mřížkou

Semicorex Susceptor with Grid je specializovaná součást používaná v procesu epitaxního růstu polovodičových destiček. Toto kritické zařízení je navrženo tak, aby neslo a podpíralo pláty během nanášení materiálů v systému metal-organic Chemical Vapour Deposition (MOCVD). Susceptor s mřížkou hraje klíčovou roli při zajišťování rovnoměrného a kontrolovaného růstu epitaxních vrstev na polovodičovém plátku.

Susceptor s mřížkou je vyroben z materiálů optimalizovaných pro jeho funkci. V tomto případě je vyroben z grafitu potaženého MOCVD SiC (Metal-Organic Chemical Vapor Deposition Silicon Carbide). Tato volba materiálů poskytuje několik výhod, včetně odolnosti vůči vysokým teplotám, chemické stability a vynikající tepelné vodivosti. Povlak SiC na grafitu zvyšuje trvanlivost a odolnost susceptoru vůči drsným podmínkám, se kterými se setkáváme během procesu epitaxního růstu.

Susceptor s mřížkovou strukturou slouží jako nosný mechanismus pro polovodičové wafery. Je strategicky navržen tak, aby držel destičky bezpečně na místě a zároveň umožňoval efektivní proudění plynů a rovnoměrné ukládání materiálů. Mřížkový vzor pomáhá distribuovat teplo a reaktanty rovnoměrně po povrchu plátku, což přispívá k přesné kontrole tloušťky a složení epitaxní vrstvy.

Semicorex Susceptor with Grid je kritickou součástí ve výrobním procesu pokročilých polovodičových součástek. Jeho robustní konstrukce a specializovaný design z něj činí nezbytný nástroj pro dosažení vysoce kvalitního epitaxního růstu, který zajišťuje výrobu polovodičů s vynikajícím výkonem a spolehlivostí.