GaN-on-Si Epi Wafer Chuck

Semicorex GaN-on-Si Epi Wafer Chuck je nedílnou součástí výroby polovodičů a umožňuje stabilní a spolehlivou podporu během kritických procesů, jako je depozice, leptání a litografie. GaN-on-Si Epi Wafer Chuck zajišťuje účinné odvádění tepla a udržuje rovnoměrné rozložení teploty na plátku, aby se zabránilo teplotním gradientům, které by mohly způsobit defekty. GaN-on-Si Epi Wafer Chuck je k dispozici v různých velikostech a konfiguracích, aby vyhovoval různým rozměrům destiček a požadavkům na zpracování a nabízí flexibilitu pro různé potřeby výroby polovodičů.

Aplikace:

Epitaxní růst: GaN-on-Si Epi Wafer Chuck poskytuje stabilní platformu pro růst vysoce kvalitních GaN vrstev na křemíkových substrátech, GaN-on-Si Epi Wafer Chuck je nezbytný pro vysoce výkonná elektronická a optoelektronická zařízení.

Leptání a nanášení: Usnadňuje rovnoměrné odstraňování nebo nanášení materiálu, což je klíčové pro dosažení požadovaných strukturálních a elektrických vlastností zařízení.

GaN-on-Si Epi Wafer Chuck je nepostradatelným nástrojem pro výrobce polovodičů, kteří chtějí vyrábět špičková zařízení na bázi GaN, nabízející bezkonkurenční výkon v přesnosti, stabilitě a odolnosti.