Horizontální křemenné oplatkové čluny

Horizontální čluny z křemenných plátkůběžně drží polovodičové destičky vodorovně uvnitř trubek pece zařízení pro tepelné zpracování, vyhřívané externími topnými zařízeními. Jsou široce používány v náročných procesech tepelného zpracování vysokoteplotních korozivních polovodičů, jako je tepelná oxidace, vysokoteplotní difúze, žíhání a chemické nanášení z plynné fáze (CVD).

Funkce horizontálních křemenných wafer člunů Semicorex

1.Stabilní držení a zajištění

Horizontální křemenné waferové čluny Semicorex mají vynikající nosnost a mohou neustále nabízet stabilní podporu pro více polovodičových waferů. A jejich optimalizovaný vnější design a precizní štěrbinová struktura to zajišťujíoplatkaje dokonale uchycena a pevně zajištěna na horizontálních křemenných člunech, což výrazně snižuje škrábance a kolize destičky způsobené otřesy, posunutím a nakláněním během přepravy a výrobních procesů.

2. Pomoc při uniformitě procesu

Stejnoměrně rozmístěná štěrbinová struktura horizontálních křemenných plátků umožňuje řádné umístění polovodičových plátků, čímž se vytváří stabilní a hladké pole proudění plynu ve vysokoteplotních pecích. Konstrukční návrh dosahuje konzistentního kontaktu plynu a rychlosti reakce na každém povrchu plátku, čímž účinně snižuje různé defekty způsobené nerovnoměrným ohřevem a rozdílným kontaktem plynu, jako je neúplná oxidace plátku, nerovnoměrné nanášení tenkého filmu a odchylka koncentrace dopingu.

3.Dlouhá životnost

Díky vynikající odolnosti křemenného materiálu vůči vysokým teplotám mohou horizontální křemenné čluny Semicorex odolávat vysokým teplotám 1100-1200℃ po dlouhou dobu bez deformace nebo roztavení.Křemenje chemicky inertní vůči plynům běžně používaným v polovodičových procesech, jako je kyslík, dusík a chlorovodík. Tato výjimečná chemická inertnost může minimalizovat riziko koroze z procesních plynů, výrazně prodloužit životnost a zkrátit dobu a náklady na výměnu zařízení.