- English
- Español
- Português
- русский
- Français
- 日本語
- Deutsch
- tiếng Việt
- Italiano
- Nederlands
- ภาษาไทย
- Polski
- 한국어
- Svenska
- magyar
- Malay
- বাংলা ভাষার
- Dansk
- Suomi
- हिन्दी
- Pilipino
- Türkçe
- Gaeilge
- العربية
- Indonesia
- Norsk
- تمل
- český
- ελληνικά
- український
- Javanese
- فارسی
- தமிழ்
- తెలుగు
- नेपाली
- Burmese
- български
- ລາວ
- Latine
- Қазақша
- Euskal
- Azərbaycan
- Slovenský jazyk
- Македонски
- Lietuvos
- Eesti Keel
- Română
- Slovenski
- मराठी
- Srpski језик
Produkty
Semicorex je profesionální výrobce a dodavatel v Číně. Naše továrna poskytuje barelový susceptor, mocvd susceptor, wafer boat atd. Extrémní design, kvalitní suroviny, vysoký výkon a konkurenceschopná cena jsou to, co chce každý zákazník, a to je také to, co vám můžeme nabídnout. Bereme vysokou kvalitu, rozumnou cenu a perfektní servis.
- View as
Barelový susceptor potažený SiC pro epitaxní růst LPE
Semicorex SiC Coated Barrel Susceptor pro LPE epitaxní růst je vysoce výkonný produkt navržený tak, aby poskytoval konzistentní a spolehlivý výkon po dlouhou dobu. Jeho rovnoměrný tepelný profil, laminární proudění plynu a prevence kontaminace z něj činí ideální volbu pro růst vysoce kvalitních epitaxních vrstev na waferových čipech. Jeho přizpůsobitelnost a nákladová efektivita z něj činí vysoce konkurenční produkt na trhu.
Přečtěte si víceOdeslat dotaz
Barel Receiver Epi System
Semicorex Barrel Susceptor Epi System je vysoce kvalitní produkt, který nabízí vynikající přilnavost povlaku, vysokou čistotu a odolnost proti oxidaci při vysokých teplotách. Jeho rovnoměrný tepelný profil, laminární proudění plynu a prevence kontaminace z něj činí ideální volbu pro růst epixiálních vrstev na waferových čipech. Jeho nákladová efektivita a přizpůsobitelnost z něj činí vysoce konkurenceschopný produkt na trhu.
Přečtěte si víceOdeslat dotaz
Reaktorový systém s kapalnou fází epitaxe (LPE).
Semicorex Liquid Phase Epitaxy (LPE) Reactor System je inovativní produkt, který nabízí vynikající tepelný výkon, rovnoměrný tepelný profil a vynikající přilnavost povlaku. Jeho vysoká čistota, odolnost proti oxidaci při vysokých teplotách a odolnost proti korozi z něj činí ideální volbu pro použití v polovodičovém průmyslu. Jeho přizpůsobitelné možnosti a nákladová efektivita z něj činí vysoce konkurenční produkt na trhu.
Přečtěte si víceOdeslat dotaz
CVD epitaxní depozice v barelovém reaktoru
Semicorex CVD Epitaxial Deposition In Barrel Reactor je vysoce odolný a spolehlivý produkt pro pěstování epixiálních vrstev na waferových čipech. Jeho odolnost proti oxidaci při vysokých teplotách a vysoká čistota jej činí vhodným pro použití v polovodičovém průmyslu. Jeho rovnoměrný tepelný profil, laminární proudění plynu a prevence kontaminace z něj činí ideální volbu pro vysoce kvalitní růst epixiální vrstvy.
Přečtěte si víceOdeslat dotaz
Epitaxní depozice křemíku v sudovém reaktoru
Pokud potřebujete vysoce výkonný grafitový susceptor pro použití při výrobě polovodičů, je Semicorex Silicon Epitaxial Deposition In Barrel Reactor ideální volbou. Jeho vysoce čistý SiC povlak a výjimečná tepelná vodivost poskytují vynikající ochranu a vlastnosti distribuce tepla, což z něj činí volbu pro spolehlivý a konzistentní výkon i v těch nejnáročnějších prostředích.
Přečtěte si víceOdeslat dotaz
Indukčně vyhřívaný barel Epi systém
Pokud potřebujete grafitový susceptor s výjimečnou tepelnou vodivostí a vlastnostmi distribuce tepla, nehledejte nic jiného než systém Semicorex Inductively Heated Barrel Epi System. Jeho vysoce čistý SiC povlak poskytuje vynikající ochranu ve vysokoteplotním a korozivním prostředí, takže je ideální volbou pro použití v aplikacích výroby polovodičů.
Přečtěte si víceOdeslat dotaz
