Semicorex Epitaxial Susceptor s povlakem SiC je navržen tak, aby podporoval a držel destičky SiC během procesu epitaxního růstu, čímž zajišťuje přesnost a jednotnost při výrobě polovodičů. Vyberte si Semicorex pro jeho vysoce kvalitní, odolné a přizpůsobitelné produkty, které splňují přísné požadavky pokročilých polovodičových aplikací.*
Přečtěte si víceOdeslat dotazSemicorex SiC Coated Waferholder je vysoce výkonná součást navržená pro přesné umístění a manipulaci s SiC destičkami během epitaxních procesů. Vyberte si Semicorex pro jeho závazek dodávat pokročilé, spolehlivé materiály, které zvyšují efektivitu a kvalitu výroby polovodičů.*
Přečtěte si víceOdeslat dotazSemicorex PAN Based Carbon Felt je lehký, vysoce výkonný izolační materiál určený pro prostředí s vysokou teplotou. Vyberte si Semicorex pro naši odbornost v poskytování přizpůsobených a spolehlivých řešení, která zvyšují efektivitu a životnost vašich průmyslových procesů.*
Přečtěte si víceOdeslat dotazSemicorex PAN Based Carbon Fibre Graphite Soft Felt je lehký, vysoce výkonný izolační materiál navržený pro použití v prostředí s vysokou teplotou. Vyberte si Semicorex pro náš závazek dodávat inovativní, spolehlivá a přizpůsobená řešení, která zvyšují efektivitu a přesnost v kritických aplikacích.*
Přečtěte si víceOdeslat dotazSemicorex Porous Graphite Barrel je vysoce čistý materiál s vysoce otevřenou propojenou strukturou pórů a vysokou porézností, navržený pro zvýšení růstu krystalů SiC v pokročilých pecích. Vyberte si Semicorex pro inovativní řešení polovodičových materiálů, která poskytují špičkovou kvalitu, spolehlivost a přesnost.*
Přečtěte si víceOdeslat dotazSemicorex Porous Graphite Rod je vysoce čistý materiál s vysoce otevřenou propojenou strukturou pórů a vysokou porézností, speciálně navržený pro zlepšení procesu růstu krystalů SiC. Vyberte si Semicorex pro špičková řešení polovodičových materiálů, která upřednostňují přesnost, spolehlivost a inovace.*
Přečtěte si víceOdeslat dotaz