Produkty

Držák destiček Semicorex pro proces leptání ICP je perfektní volbou pro náročnou manipulaci s destičkami a procesy nanášení tenkých vrstev. Náš produkt se může pochlubit vynikající odolností vůči teplu a korozi, rovnoměrnou tepelnou rovnoměrností a optimálními vzory laminárního proudění plynu pro konzistentní a spolehlivé výsledky.

ICP Silicon Carbon Coated Graphite od společnosti Semicorex je ideální volbou pro náročnou manipulaci s plátky a procesy nanášení tenkých vrstev. Náš produkt se může pochlubit vynikající odolností vůči teplu a korozi, rovnoměrnou tepelnou rovnoměrností a optimálními vzory laminárního proudění plynu.

Vyberte si ICP Plasma Etching System společnosti Semicorex pro proces PSS pro vysoce kvalitní epitaxi a procesy MOCVD. Náš produkt je navržen speciálně pro tyto procesy a nabízí vynikající odolnost vůči teplu a korozi. Díky čistému a hladkému povrchu je náš nosič ideální pro manipulaci s nedotčenými oplatkami.

Plazmová leptací deska ICP společnosti Semicorex poskytuje vynikající odolnost vůči teplu a korozi pro manipulaci s plátky a procesy nanášení tenkých vrstev. Náš produkt je navržen tak, aby vydržel vysoké teploty a drsné chemické čištění, což zajišťuje odolnost a dlouhou životnost. Díky čistému a hladkému povrchu je náš nosič ideální pro manipulaci s nedotčenými oplatkami.

Hledáte spolehlivý nosič plátků pro leptací procesy? Nehledejte nic jiného než ICP nosič leptání z karbidu křemíku od Semicorex. Náš produkt je navržen tak, aby vydržel vysoké teploty a drsné chemické čištění, což zajišťuje odolnost a dlouhou životnost. Díky čistému a hladkému povrchu je náš nosič ideální pro manipulaci s nedotčenými oplatkami.

SiC deska společnosti Semicorex pro proces leptání ICP je dokonalým řešením pro požadavky na vysokoteplotní a drsné chemické zpracování při nanášení tenkých vrstev a manipulaci s plátky. Náš produkt se může pochlubit vynikající tepelnou odolností a rovnoměrnou tepelnou rovnoměrností, což zajišťuje konzistentní tloušťku a odolnost epi vrstvy. Díky čistému a hladkému povrchu poskytuje náš vysoce čistý krystalový povlak SiC optimální manipulaci s nedotčenými oplatkami.