> Produkty > Potaženo karbidem křemíku

Produkty

Nové produkty

Čína Potaženo karbidem křemíku Výrobci, dodavatelé, továrna

Povlak SiC je tenká vrstva na susceptoru prostřednictvím procesu chemické depozice z plynné fáze (CVD). Materiál z karbidu křemíku poskytuje oproti křemíku řadu výhod, včetně 10x vyšší intenzity průrazného elektrického pole, 3x šířky zakázaného pásu, což poskytuje materiálu vysokou teplotní a chemickou odolnost, vynikající odolnost proti opotřebení a tepelnou vodivost.

Semicorex poskytuje přizpůsobené služby, pomáhá vám inovovat komponenty, které vydrží déle, zkracují doby cyklů a zvyšují výnosy.

Povlak SiC má několik jedinečných výhod

Odolnost vůči vysokým teplotám: Susceptor potažený CVD SiC může odolat vysokým teplotám až 1600 °C, aniž by podstoupil významnou tepelnou degradaci.

Chemická odolnost: Povlak z karbidu křemíku poskytuje vynikající odolnost vůči široké škále chemikálií, včetně kyselin, zásad a organických rozpouštědel.

Odolnost proti opotřebení: Povlak SiC poskytuje materiálu vynikající odolnost proti opotřebení, takže je vhodný pro aplikace, které zahrnují vysoké opotřebení.

Tepelná vodivost: Povlak CVD SiC poskytuje materiálu vysokou tepelnou vodivost, díky čemuž je vhodný pro použití ve vysokoteplotních aplikacích, které vyžadují účinný přenos tepla.

Vysoká pevnost a tuhost: Susceptor potažený karbidem křemíku poskytuje materiálu vysokou pevnost a tuhost, takže je vhodný pro aplikace, které vyžadují vysokou mechanickou pevnost.

SiC povlak se používá v různých aplikacích

Výroba LED: Susceptor potažený CVD SiC se používá při výrobě zpracovaných různých typů LED, včetně modré a zelené LED, UV LED a hlubokého UV LED, díky své vysoké tepelné vodivosti a chemické odolnosti.

Nosič leptání PSS

Modrý a zelený LED epitaxní susceptor

Deep-UV LED epitaxní susceptor

Mobilní komunikace: CVD SiC potažený susceptor je klíčovou součástí HEMT pro dokončení epitaxního procesu GaN-on-SiC.

Epitaxní nosič GaN-on-SiC

Susceptor substrátu GaN-on-SiC

Zpracování polovodičů: Susceptor potažený CVD SiC se používá v polovodičovém průmyslu pro různé aplikace, včetně zpracování plátků a epitaxního růstu.

Sudový přijímač

ICP nosič leptání

SiC deska pro proces leptání ICP

Akceptor pro MOCVD

Monokrystalický křemíkový susceptor

Epitaxní receptor karbidu křemíku

Grafitové komponenty potažené SiC

Vyrobeno z grafitu Silicon Carbide Coating (SiC), povlak je aplikován metodou CVD na konkrétní druhy grafitu s vysokou hustotou, takže může pracovat ve vysokoteplotní peci s více než 3000 °C v inertní atmosféře, 2200 °C ve vakuu .

Speciální vlastnosti a nízká hmotnost materiálu umožňují vysokou rychlost ohřevu, rovnoměrné rozložení teploty a vynikající přesnost ovládání.

Materiálové údaje Semicorex SiC Coating

Typické vlastnosti	Jednotky	Hodnoty
Struktura		FCC β fáze
Orientace	zlomek (%)	111 přednostně
Objemová hmotnost	g/cm³	3.21
Tvrdost	Tvrdost podle Vickerse	2500
Tepelná kapacita	J kg-1 K-1	640
Tepelná roztažnost 100–600 °C (212–1112 °F)	10-6K-1	4.5
Youngův modul	Gpa (4pt ohyb, 1300℃)	430
Velikost zrna	μm	2~10
Teplota sublimace	℃	2700
Felexurální síla	MPa (RT 4-bodové)	415
Tepelná vodivost	(W/mK)	300

Závěr CVD SiC potažený susceptor je kompozitní materiál, který kombinuje vlastnosti susceptoru a karbidu křemíku. Tento materiál má jedinečné vlastnosti, včetně vysoké teplotní a chemické odolnosti, vynikající odolnosti proti opotřebení, vysoké tepelné vodivosti a vysoké pevnosti a tuhosti. Tyto vlastnosti z něj činí atraktivní materiál pro různé vysokoteplotní aplikace, včetně zpracování polovodičů, chemického zpracování, tepelného zpracování, výroby solárních článků a výroby LED.

View as

SiC hlaveň pro křemíkovou epitaxi

Semicorex SiC Barrel For Silicon Epitaxy je navržen tak, aby splňoval náročné požadavky na aplikované materiály a jednotky LPE. Tento sudovitý susceptor, vyrobený s přesností a inovací, je vyroben z vysoce kvalitního grafitu potaženého SiC, což zajišťuje výjimečný výkon a odolnost v aplikacích silikonové epitaxe. Semicorex se zavázal poskytovat kvalitní produkty za konkurenceschopné ceny, těšíme se, že se staneme vaším dlouhodobým partnerem v Číně.

Přečtěte si více Odeslat dotaz

Grafitový susceptor s povlakem SiC

Grafitový susceptor Semicorex s povlakem SiC je nezbytnou součástí navrženou pro procesy křemíkové epitaxe v aplikovaných materiálech a jednotkách LPE (liquid Phase Epitaxy). Tento susceptor, vyrobený z vysoce kvalitního grafitového materiálu potaženého karbidem křemíku (SiC), zajišťuje vynikající výkon a dlouhou životnost v prostředí výroby polovodičů. Semicorex se zavázal poskytovat kvalitní produkty za konkurenceschopné ceny, těšíme se, že se staneme vaším dlouhodobým partnerem v Číně.

Přečtěte si více Odeslat dotaz

Náhradní díly v epitaxním růstu

Náhradní díly Semicorex v epitaxním růstu jsou klíčové komponenty používané v systémech epitaxního růstu, zejména v procesech zahrnujících nastavení křemenných trubic. Tyto části hrají zásadní roli při usnadňování proudění plynu pro pohánění rotace základny tácu a zajišťují přesné řízení teploty během procesu epitaxního růstu. Semicorex se zavázal poskytovat kvalitní produkty za konkurenceschopné ceny, těšíme se, že se staneme vaším dlouhodobým partnerem v Číně.

Přečtěte si více Odeslat dotaz

CVD SiC potažený barelový susceptor

Semicorex CVD SiC Coated Barrel Susceptor je pečlivě navržená součástka přizpůsobená pro pokročilé procesy výroby polovodičů, zejména epitaxi. Naše produkty mají dobrou cenovou výhodu a pokrývají většinu evropských a amerických trhů. Těšíme se, že se staneme vaším dlouhodobým partnerem v Číně.

Přečtěte si více Odeslat dotaz

Susceptor hlavně Karbid křemíku potažený grafitem

Semicorex Barrel Susceptor Silicon Carbide Coated Graphite je specializovaná součást navržená pro použití v procesu epitaxe, zejména při přenášení waferů. Kontaktujte nás ještě dnes a zjistěte více o tom, jak vám můžeme pomoci s vašimi potřebami zpracování polovodičových destiček.

Přečtěte si více Odeslat dotaz

MOCVD SiC potažený grafitový susceptor

Semicorex MOCVD SiC potažený grafitový susceptor je pokročilá a specializovaná součást používaná v procesu metal-organické chemické depozice z plynné fáze, což je klíčová technika při výrobě polovodičů, optoelektronických zařízení a dalších pokročilých materiálů. Semicorex se zavázal poskytovat kvalitní produkty za konkurenceschopné ceny, těšíme se, že se staneme vaším dlouhodobým partnerem v Číně.

Přečtěte si více Odeslat dotaz

<...9 10 11 12 13...27 >

Semicorex vyrábí Potaženo karbidem křemíku již mnoho let a je jedním z profesionálních Potaženo karbidem křemíku výrobců a dodavatelů v Číně. Jakmile si koupíte naše pokročilé a odolné produkty, které dodávají hromadné balení, garantujeme rychlé dodání velkého množství. V průběhu let jsme zákazníkům poskytovali služby na míru. Zákazníci jsou spokojeni s našimi produkty a vynikajícími službami. Upřímně se těšíme, že se staneme vaším spolehlivým dlouhodobým obchodním partnerem! Vítejte na nákup produktů z naší továrny.