Procesní ohřívač oplatek

Semicorex Wafer Process Heater je vyroben z grafitu Silicon Carbide Coating (SiC), povlak je aplikován metodou CVD na konkrétní druhy grafitu s vysokou hustotou, takže může pracovat ve vysokoteplotní peci s více než 3000 °C v inertní atmosféře, 2200 °C ve vakuu.
Speciální vlastnosti a nízká hmotnost materiálu Wafer Process Heater umožňují rychlé rychlosti ohřevu, rovnoměrné rozložení teploty a vynikající přesnost ovládání. Ve srovnání s jinými materiály zůstává povrch karbidu křemíku plochý díky své nízké tepelné roztažnosti i při provozu s rychlými změnami teplot. Topné desky jsou velmi vhodné pro náročné procesy v systémech zpracování polovodičů.
Ve společnosti Semicorex se zaměřujeme na poskytování vysoce kvalitních a cenově výhodných produktů našim zákazníkům. Náš ohřívač Wafer Process Heater má cenovou výhodu a je vyvážen na mnoho evropských a amerických trhů. Naším cílem je být vaším dlouhodobým partnerem, dodávat produkty konzistentní kvality a výjimečné služby zákazníkům.

Parametry ohřívače oplatkového procesu

Vlastnosti ohřívače oplatkového procesu

- CVD SiC povlaky pro zlepšení životnosti.
- Vysoká teplotní odolnost, odolnost proti korozi, dlouhá životnost, může zlepšit kvalitu a výtěžnost plátků.
- Má extrémně nízký koeficient tepelné roztažnosti, vysokou teplotní odolnost, vysokou odolnost proti opotřebení, dobrou izolaci, dobrou chemickou stabilitu a téměř fialové (červené) pronikání viditelného světla.

Můžeme poskytnout antioxidační grafitový kelímek s dlouhou životností, grafitovou formu a všechny části grafitového ohřívače.