Co je to polovodičový plátek?
Polovodičový plátek je tenký kulatý plátek polovodičového materiálu, který slouží jako základ pro výrobu integrovaných obvodů (IC) a dalších elektronických zařízení. Destička poskytuje plochý a jednotný povrch, na kterém jsou postaveny různé elektronické součástky.
Proces výroby destičky zahrnuje několik kroků, včetně pěstování velkého monokrystalu požadovaného polovodičového materiálu, krájení krystalu na tenké destičky pomocí diamantové pily a následné leštění a čištění destiček, aby se odstranily veškeré povrchové vady nebo nečistoty. Výsledné wafery mají vysoce plochý a hladký povrch, který je rozhodující pro následné výrobní procesy.
Jakmile jsou destičky připraveny, podstoupí řadu procesů výroby polovodičů, jako je fotolitografie, leptání, nanášení a dopování, aby se vytvořily složité vzory a vrstvy potřebné k výrobě elektronických součástek. Tyto procesy se opakují vícekrát na jednom waferu, aby se vytvořilo více integrovaných obvodů nebo jiných zařízení.
Po dokončení procesu výroby se jednotlivé čipy oddělí nakrájením plátku podél předem definovaných linií. Oddělené čipy jsou pak zabaleny, aby byly chráněny a poskytovaly elektrické připojení pro integraci do elektronických zařízení.
Různé materiály na oplatce
Polovodičové destičky jsou primárně vyrobeny z monokrystalického křemíku kvůli jeho hojnosti, vynikajícím elektrickým vlastnostem a kompatibilitě se standardními procesy výroby polovodičů. V závislosti na konkrétních aplikacích a požadavcích však lze pro výrobu destiček použít i jiné materiály. Zde je několik příkladů:
Karbid křemíku (SiC): SiC je polovodičový materiál se širokou šířkou pásma známý pro svou vynikající tepelnou vodivost a výkon při vysokých teplotách. SiC destičky se používají ve vysoce výkonných elektronických zařízeních, jako jsou výkonové měniče, invertory a součásti elektrických vozidel.
Gallium nitrid (GaN): GaN je širokopásmový polovodičový materiál s výjimečnými schopnostmi manipulace s výkonem. GaN wafery se používají při výrobě výkonových elektronických zařízení, vysokofrekvenčních zesilovačů a LED (světlo emitujících diod).
Gallium Arsenide (GaAs): GaAs je dalším běžným materiálem používaným pro wafery, zejména ve vysokofrekvenčních a vysokorychlostních aplikacích. GaAs wafery nabízejí lepší výkon pro určitá elektronická zařízení, jako jsou RF (radiofrekvenční) a mikrovlnná zařízení.
Indium fosfid (InP): InP je materiál s vynikající mobilitou elektronů a často se používá v optoelektronických zařízeních, jako jsou lasery, fotodetektory a vysokorychlostní tranzistory. InP wafery jsou vhodné pro aplikace v oblasti optické komunikace, satelitní komunikace a vysokorychlostního přenosu dat.
Semicorex Wafer Cassette Box je PFA fluoroplastová kazeta s velkou plochou otvoru, navržená pro zlepšení výkonu mytí a sušení destiček při výrobě polovodičů. Vyberte si Semicorex pro jeho osvědčené zkušenosti s poskytováním vysoce kvalitních, trvanlivých a chemicky odolných řešení pro manipulaci s destičkami.*
Přečtěte si víceOdeslat dotazSemicorex PFA Wafer Cassettes jsou vysoce výkonné komponenty používané k bezpečnému držení a přepravě waferů během zpracování polovodičů. Vyberte si Semicorex pro jeho špičkovou kvalitu, která zajišťuje vynikající ochranu plátků, kontrolu kontaminace a kompatibilitu s automatizovanými systémy.*
Přečtěte si víceOdeslat dotazSemicorex Semiconductor Cassette je jednou z kritických komponent navržených pro zajištění bezpečnosti a integrity jemného plátku. Semicorex se zavázal poskytovat kvalitní produkty za konkurenceschopné ceny, těšíme se, že se staneme vaším dlouhodobým partnerem v Číně*.
Přečtěte si víceOdeslat dotazSemicorex Wafer nosiče, také známé jako wafer kazety, hrají zásadní roli při udržování těchto standardů. Tyto specializované nádoby jsou navrženy pro bezpečné skladování a přepravu křemíkových plátků, které jsou základním materiálem pro polovodičová zařízení. Semicorex se zavázal poskytovat kvalitní produkty za konkurenceschopné ceny, těšíme se, že se staneme vaším dlouhodobým partnerem v Číně*.
Přečtěte si víceOdeslat dotazSemicorex 2" Gallium Oxide Substrates představují novou kapitolu v příběhu polovodičů čtvrté generace se zrychlujícím se tempem hromadné výroby a komercializace. Tyto substráty vykazují výjimečné výhody pro různé pokročilé technologické aplikace. Substráty z oxidu galia nejenže symbolizují významný pokrok v polovodičové technologie, ale také otevírají nové cesty pro zlepšení účinnosti a výkonu zařízení v celém spektru vysoce důležitých průmyslových odvětví My ve společnosti Semicorex se věnujeme výrobě a dodávání vysoce výkonných 2" substrátů z oxidu galia, které spojují kvalitu s nákladovou efektivitou.**
Přečtěte si víceOdeslat dotazSemicorex 4" Gallium Oxide Substrates představují novou kapitolu v příběhu polovodičů čtvrté generace se zrychlujícím se tempem hromadné výroby a komercializace. Tyto substráty vykazují výjimečné výhody pro různé pokročilé technologické aplikace. Substráty z oxidu galia symbolizují nejen významný pokrok v polovodičové technologie, ale také otevírají nové cesty ke zlepšení účinnosti a výkonu zařízení v celém spektru vysoce důležitých odvětví My v Semicorex se věnujeme výrobě a dodávání vysoce výkonných 4" substrátů z oxidu galia, které spojují kvalitu s nákladovou efektivitou.**
Přečtěte si víceOdeslat dotaz