Horní zemnicí kroužky potažené CVD SiC

CVD SiC-potažené horní uzemňovací kroužky jsou typicky instalovány v horní oblasti reakční komory v zařízení pro plazmové leptání, obklopující elektrostatický upínač plátku. CVD SiC-potažené horní zemnící kroužky jsou životně důležité pro celý systém leptání, který může fungovat jako fyzická bariéra pro ochranu součástí zařízení před plazmovým útokem a upravovat vnitřní elektrické pole a omezovat rozsah distribuce plazmatu, aby byly zajištěny jednotné výsledky leptání.

Plazmové leptání je technologie suchého leptání široce používaná ve výrobě polovodičů, která funguje tak, že využívá fyzikální a chemické interakce mezi plazmatem a povrchem polovodičových materiálů k selektivnímu odstranění specifických oblastí, čímž se dosáhne zpracování přesných struktur. V náročném prostředí plazmového leptání způsobuje vysokoenergetické plazma agresivní korozi a napadá součásti uvnitř reakční komory. Aby byl zajištěn spolehlivý a účinný provoz, musí mít součásti komory vynikající odolnost proti korozi, mechanické vlastnosti a vlastnosti s nízkou kontaminací. Horní zemnicí kroužky s povlakem Semicorex CVD SiC jsou dokonale navrženy pro tato drsná provozní prostředí s vysokou korozí.

Spolehlivý povlak CVD SiC

Pro lepší výkon v drsných podmínkách leptání jsou horní broušené kroužky s povlakem Semicorex CVD SiC pokryty vysoce výkonným povlakem CVD SiC, který dále zvyšuje jejich výkon a odolnost.

1. Ultra vysoká čistota

TheSiC povlakvyrobeno procesem CVD se vyznačuje vynikajícím zhutněním s ultra vysokou čistotou (čistota přesahuje 99,9999 %), která může zabránit horním broušeným prstencům potaženým SiC Semicorex CVD před vysokoenergetickým plazmovým napadením při leptacích aplikacích, čímž se zabrání kontaminaci způsobené částicemi nečistot z matric.

2. Zlepšená odolnost proti korozi

Povlak SiC vyrobený procesem CVD nabízí zlepšenou odolnost proti korozi, díky čemuž horní uzemňovací kroužky s povlakem SiC Semicorex CVD účinně odolávají náročné korozi způsobené plazmou (zejména korozivní plyny, jako jsou halogeny a fluor).

3. Zlepšené mechanické vlastnosti

Horní broušené kroužky s povlakem Semicorex CVD SiC vydrží intenzivní plazmové bombardování, mechanické namáhání a častou manipulaci bez deformace nebo zlomení během dlouhodobého provozu díky zvýšené tvrdosti a odolnosti povlaku CVD SiC proti opotřebení.

Vysoce standardní zpracování a kontrola kvality

Aby se dokonale přizpůsobily náročným podmínkám leptání polovodičů, podléhají horní broušené kroužky Semicorex CVD SiC přesnému obrábění a přísné kontrole.

Povrchová úprava: Přesnost leštění je Ra < 0,1 µm; přesnost jemného broušení je Ra > 0,1 µm

Přesnost zpracování je řízena v rozmezí ≤ 0,03 mm

Kontrola kvality:

Pevné CVD SiC kroužky Semicorex jsou podrobeny ICP-MS (hmotnostní spektrometrii s indukčně vázaným plazmatem) analýze. Pevné CVD SiC kroužky Semicorex podléhají rozměrovému měření, zkoušce měrného odporu a vizuální kontrole, což zaručuje, že produkty neobsahují třísky, škrábance, praskliny, skvrny a jiné vady.