Domov > produkty > Potaženo karbidem křemíku > ICP nosič leptání > Vysokoteplotní povlak SiC pro komory pro plazmové leptání
Vysokoteplotní povlak SiC pro komory pro plazmové leptání

Vysokoteplotní povlak SiC pro komory pro plazmové leptání

Pokud jde o procesy manipulace s plátky, jako je epitaxe a MOCVD, je tou nejlepší volbou vysokoteplotní povlak SiC společnosti Semicorex pro plazmové leptací komory. Naše nosiče poskytují vynikající tepelnou odolnost, rovnoměrnou tepelnou rovnoměrnost a trvanlivou chemickou odolnost díky našemu jemnému krystalickému povlaku SiC.

Odeslat dotaz

Popis výrobku

Ve společnosti Semicorex chápeme důležitost vysoce kvalitního zařízení pro manipulaci s plátky. Proto je náš vysokoteplotní povlak SiC pro plazmové leptací komory navržen speciálně pro vysokoteplotní a drsná prostředí chemického čištění. Naše nosiče poskytují rovnoměrné tepelné profily, vzory laminárního proudění plynu a zabraňují kontaminaci nebo difúzi nečistot.
Kontaktujte nás ještě dnes a zjistěte více o našem vysokoteplotním povlaku SiC pro komory pro plazmové leptání.


Parametry vysokoteplotního SiC povlaku pro plazmové leptací komory

Hlavní specifikace povlaku CVD-SIC

Vlastnosti SiC-CVD

Krystalická struktura

FCC β fáze

Hustota

g/cm³

3.21

Tvrdost

Tvrdost podle Vickerse

2500

Velikost zrna

μm

2~10

Chemická čistota

%

99.99995

Tepelná kapacita

J·kg-1 ·K-1

640

Teplota sublimace

2700

Felexurální síla

MPa (RT 4-bodové)

415

Youngův modul

Gpa (4pt ohyb, 1300â)

430

Tepelná expanze (C.T.E)

10-6K-1

4.5

Tepelná vodivost

(W/mK)

300


Vlastnosti vysokoteplotního SiC povlaku pro plazmové leptací komory

- Zabraňte odlupování a zajistěte povlak na celém povrchu

Odolnost proti oxidaci při vysokých teplotách: Stabilní při vysokých teplotách až do 1600 °C

Vysoká čistota: vyrobeno chemickou depozicí z par CVD za podmínek chlorace při vysoké teplotě.

Odolnost proti korozi: vysoká tvrdost, hustý povrch a jemné částice.

Odolnost proti korozi: kyselinám, zásadám, solím a organickým činidlům.

- Dosáhněte nejlepšího vzoru laminárního proudění plynu

- Garance rovnoměrnosti tepelného profilu

- Zabraňte jakékoli kontaminaci nebo šíření nečistot





Hot Tags: Vysokoteplotní povlak SiC pro komory pro plazmové leptání, Čína, Výrobci, Dodavatelé, Továrna, Na míru, Hromadné, Pokročilé, Odolné

Související kategorie

Odeslat dotaz

Neváhejte a napište svůj dotaz do formuláře níže. Odpovíme vám do 24 hodin.
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept