ICP leptací nosná deska Semicorex je dokonalým řešením pro náročnou manipulaci s plátky a procesy nanášení tenkých vrstev. Náš produkt poskytuje vynikající tepelnou odolnost a odolnost proti korozi, rovnoměrnou tepelnou rovnoměrnost a laminární proudění plynu. Díky čistému a hladkému povrchu je náš nosič ideální pro manipulaci s nedotčenými oplatkami.
ICP leptací nosná deska Semicorex poskytuje vynikající odolnost a dlouhou životnost pro manipulaci s plátky a procesy nanášení tenkých vrstev. Náš produkt se může pochlubit vynikající odolností vůči teplu a korozi, rovnoměrnou tepelnou rovnoměrností a vzorem laminárního proudění plynu. Díky čistému a hladkému povrchu náš nosič zajišťuje optimální manipulaci s nedotčenými oplatkami. Odstraňte vysokou teplotu, chemické čištění a vysokou tepelnou rovnoměrnost.
Kontaktujte nás ještě dnes a zjistěte více o naší ICP leptací nosné desce.
Parametry ICP leptací nosné desky
Hlavní specifikace povlaku CVD-SIC |
||
Vlastnosti SiC-CVD |
||
Krystalová struktura |
FCC β fáze |
|
Hustota |
g/cm³ |
3.21 |
Tvrdost |
Tvrdost podle Vickerse |
2500 |
Velikost zrna |
μm |
2~10 |
Chemická čistota |
% |
99.99995 |
Tepelná kapacita |
J kg-1 K-1 |
640 |
Teplota sublimace |
℃ |
2700 |
Felexurální síla |
MPa (RT 4-bodové) |
415 |
Youngův modul |
Gpa (4pt ohyb, 1300℃) |
430 |
Tepelná expanze (C.T.E) |
10-6K-1 |
4.5 |
Tepelná vodivost |
(W/mK) |
300 |
Vlastnosti ICP leptací nosné desky
- Zabraňte odlupování a zajistěte povlak na celém povrchu
Odolnost proti oxidaci při vysokých teplotách: Stabilní při vysokých teplotách až do 1600 °C
Vysoká čistota: vyrobeno chemickou depozicí z par CVD za podmínek chlorace při vysoké teplotě.
Odolnost proti korozi: vysoká tvrdost, hustý povrch a jemné částice.
Odolnost proti korozi: kyselinám, zásadám, solím a organickým činidlům.
- Dosáhněte nejlepšího vzoru laminárního proudění plynu
- Garance rovnoměrnosti tepelného profilu
- Zabraňte jakékoli kontaminaci nebo šíření nečistot