Vstupní kroužky MOCVD

Semicorex je velký výrobce a dodavatel grafitu potaženého karbidem křemíku v Číně. Naše vstupní kroužky MOCVD mají dobrou cenovou výhodu a pokrývají mnoho evropských a amerických trhů. Těšíme se, že se staneme vaším dlouhodobým partnerem.

Odeslat dotaz

Popis výrobku

Semicorex dodává vstupní kroužky MOCVD používané při nanášení a zpracování plátků, které jsou skutečně stabilní pro RTA, RTP nebo drsné chemické čištění. Naše vstupní kroužky MOCVD mají grafitovou konstrukci potaženou vysoce čistým karbidem křemíku (SiC), která poskytuje vynikající tepelnou odolnost, rovnoměrnou tepelnou rovnoměrnost pro konzistentní tloušťku a odolnost epi vrstvy a trvalou chemickou odolnost. Jemný krystalový povlak SiC poskytuje čistý, hladký povrch, který je kritický pro manipulaci, protože nedotčené plátky se dotýkají susceptoru na mnoha místech po celé své ploše.

Ve společnosti Semicorex se zaměřujeme na poskytování vysoce kvalitních, nákladově efektivních vstupních kroužků MOCVD, upřednostňujeme spokojenost zákazníků a poskytujeme nákladově efektivní řešení. Těšíme se, že se staneme vaším dlouhodobým partnerem, který bude dodávat vysoce kvalitní produkty a výjimečné služby zákazníkům.

Parametry vstupních kroužků MOCVD

Hlavní specifikace povlaku CVD-SIC
Vlastnosti SiC-CVD
Krystalová struktura	FCC β fáze
Hustota	g/cm³	3.21
Tvrdost	Tvrdost podle Vickerse	2500
Velikost zrna	μm	2~10
Chemická čistota	%	99.99995
Tepelná kapacita	J kg-1 K-1	640
Teplota sublimace	℃	2700
Felexurální síla	MPa (RT 4-bodové)	415
Youngův modul	Gpa (4pt ohyb, 1300℃)	430
Tepelná expanze (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Tepelná vodivost	(W/mK)	300