Domov > Produkty > Keramický > Karbid křemíku (SiC) > Zaostřovací kroužek pro plazmové zpracování
Zaostřovací kroužek pro plazmové zpracování

Zaostřovací kroužek pro plazmové zpracování

Zaostřovací kroužek pro plazmové zpracování Semicorex je speciálně navržen tak, aby splňoval vysoké požadavky na zpracování plazmového leptání v polovodičovém průmyslu. Naše pokročilé, vysoce čisté komponenty potažené karbidem křemíku jsou vyrobeny tak, aby vydržely extrémní prostředí a jsou vhodné pro použití v různých aplikacích, včetně vrstev karbidu křemíku a epitaxních polovodičů.

Odeslat dotaz

Popis výrobku

Náš zaostřovací kroužek pro plazmové zpracování je vysoce stabilní pro RTA, RTP nebo drsné chemické čištění, takže je ideální volbou pro použití v komorách pro plazmové leptání (nebo suché leptání). Naše zaostřovací kroužky nebo okrajové kroužky jsou navrženy tak, aby zlepšily rovnoměrnost leptání kolem okraje nebo obvodu plátku, jsou navrženy tak, aby minimalizovaly kontaminaci a neplánovanou údržbu.

Náš povlak SiC je hustý povlak z karbidu křemíku odolný proti opotřebení s vysokou odolností proti korozi a teplu a také vynikající tepelnou vodivostí. SiC nanášíme v tenkých vrstvách na grafit pomocí procesu chemické depozice z plynné fáze (CVD). To zajišťuje, že naše kroužky SiC Focus mají vynikající kvalitu a odolnost, což z nich činí spolehlivou volbu pro vaše potřeby zpracování plazmového leptání.

Kontaktujte nás ještě dnes a zjistěte více o našem zaostřovacím kroužku pro plazmové zpracování.


Parametry ostřícího kroužku pro plazmové zpracování

Hlavní specifikace povlaku CVD-SIC

Vlastnosti SiC-CVD

Krystalová struktura

FCC β fáze

Hustota

g/cm³

3.21

Tvrdost

Tvrdost podle Vickerse

2500

Velikost zrna

μm

2~10

Chemická čistota

%

99.99995

Tepelná kapacita

J kg-1 K-1

640

Teplota sublimace

2700

Felexurální síla

MPa (RT 4-bodové)

415

Youngův modul

Gpa (4pt ohyb, 1300℃)

430

Tepelná expanze (C.T.E)

10-6K-1

4.5

Tepelná vodivost

(W/mK)

300


Vlastnosti zaostřovacího kroužku pro plazmové zpracování

- CVD povlaky z karbidu křemíku pro zlepšení životnosti.

- Tepelná izolace z vysoce výkonného čištěného tuhého uhlíku.

- Ohřívač a deska z uhlíkového/uhlíkového kompozitu. - Grafitový substrát i vrstva karbidu křemíku mají vysokou tepelnou vodivost a vynikající vlastnosti distribuce tepla.

- Vysoce čistý grafit a povlak SiC pro odolnost proti dírkám a vyšší životnost



Hot Tags: Kroužek pro plazmové zpracování, Čína, Výrobci, Dodavatelé, Továrna, Na míru, Hromadné, Pokročilé, Odolné
Související kategorie
Odeslat dotaz
Neváhejte a napište svůj dotaz do formuláře níže. Odpovíme vám do 24 hodin.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept