RTP grafitová nosná deska

Grafitová nosná deska společnosti Semicorex RTP je dokonalým řešením pro aplikace zpracování polovodičových destiček, včetně epitaxního růstu a zpracování při manipulaci s destičkami. Náš produkt je navržen tak, aby nabízel vynikající tepelnou odolnost a tepelnou rovnoměrnost, což zajišťuje, že epitaxní susceptory jsou vystaveny depozičnímu prostředí s vysokou odolností vůči teplu a korozi.

Odeslat dotaz

Popis výrobku

Náš produkt se vyznačuje vysoce čistým grafitem potaženým SiC, který nabízí vynikající vlastnosti distribuce tepla a zajišťuje, že nosič potažený SiC má hladký povrch, bez trhlin a delaminace. Naše grafitová nosná deska RTP je jemně potažena karbidem křemíku, což zajišťuje, že povrch je hladký a bez jakýchkoliv defektů. Tento produkt je vysoce odolný vůči drsnému chemickému čištění a je navržen tak, aby zajistil, že nedojde k prasklinám a delaminaci.
Nabízíme cenovou výhodu, které se naši konkurenti nemohou rovnat, a jsme odhodláni stát se vaším dlouhodobým partnerem v Číně.
S naší grafitovou nosnou deskou RTP si můžete být jisti vynikajícím výkonem, vynikající tepelnou odolností a tepelnou rovnoměrností. Nosič potažený SiC je navržen tak, aby vydržel vysoké teploty a je vysoce odolný vůči chemickému čištění, což zajišťuje jeho životnost po mnoho let. Náš produkt je také navržen tak, aby se snadno používal, takže je ideální pro nové i zkušené uživatele.
Ve společnosti Semicorex jsme odhodláni poskytovat našim zákazníkům vysoce kvalitní produkty a služby. Používáme pouze ty nejlepší materiály a naše produkty jsou navrženy tak, aby splňovaly nejvyšší standardy kvality a výkonu. Naše grafitová nosná deska RTP není výjimkou. Kontaktujte nás ještě dnes a zjistěte více o tom, jak vám můžeme pomoci s vašimi potřebami zpracování polovodičových destiček.

Parametry RTP grafitové nosné desky

Hlavní specifikace povlaku CVD-SIC
Vlastnosti SiC-CVD
Krystalová struktura	FCC β fáze
Hustota	g/cm³	3.21
Tvrdost	Tvrdost podle Vickerse	2500
Velikost zrna	μm	2~10
Chemická čistota	%	99.99995
Tepelná kapacita	J kg-1 K-1	640
Teplota sublimace	℃	2700
Felexurální síla	MPa (RT 4-bodové)	415
Youngův modul	Gpa (4pt ohyb, 1300℃)	430
Tepelná expanze (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Tepelná vodivost	(W/mK)	300

Vlastnosti RTP grafitové nosné desky

Vysoce čistý grafit potažený SiC
Vynikající tepelná odolnost a tepelná rovnoměrnost
Jemný krystal SiC potažený pro hladký povrch
Vysoká odolnost proti chemickému čištění
Materiál je navržen tak, aby nedocházelo k prasklinám a delaminaci.