TaC potahový grafit je vytvořen potažením povrchu vysoce čistého grafitového substrátu jemnou vrstvou karbidu tantalu patentovaným procesem chemické depozice z plynné fáze (CVD).
Karbid tantalu (TaC) je sloučenina, která se skládá z tantalu a uhlíku. Má kovovou elektrickou vodivost a výjimečně vysoký bod tání, což z něj činí žáruvzdorný keramický materiál známý svou pevností, tvrdostí a odolností vůči teplu a opotřebení. Teplota tání karbidů tantalu vrcholí při asi 3880 °C v závislosti na čistotě a má jednu z nejvyšších teplot tání mezi binárními sloučeninami. To z něj činí atraktivní alternativu, když požadavky na vyšší teplotu překračují výkonnostní možnosti používané v epitaxních procesech složených polovodičů, jako jsou MOCVD a LPE.
Materiálové údaje Semicorex TaC Coating
Projekty |
Parametry |
Hustota |
14,3 (gm/cm³) |
Emisivita |
0.3 |
CTE (×10-6/K) |
6.3 |
Tvrdost (HK) |
2000 |
Odpor (Ohm-cm) |
1×10-5 |
Tepelná stabilita |
<2500 ℃ |
Změna rozměru grafitu |
-10~-20um (referenční hodnota) |
Tloušťka povlaku |
≥20um typická hodnota (35um±10um) |
|
|
Výše uvedené jsou typické hodnoty |
|
Vodicí kroužek z karbidu tantalu Semicorex je grafitový kroužek potažený karbidem tantalu, používaný v pecích pro růst krystalů karbidu křemíku pro podporu očkovacích krystalů, optimalizaci teploty a zvýšenou stabilitu růstu. Vyberte si Semicorex pro jeho pokročilé materiály a design, které výrazně zlepšují účinnost a kvalitu růstu krystalů.*
Přečtěte si víceOdeslat dotazSemicorex Tantalum Carbide Ring je grafitový kroužek potažený karbidem tantalu, používaný jako vodicí kroužek v pecích pro růst krystalů karbidu křemíku k zajištění přesné regulace teploty a průtoku plynu. Vyberte si Semicorex pro jeho pokročilou technologii povrchové úpravy a vysoce kvalitní materiály, které poskytují odolné a spolehlivé komponenty, které zvyšují účinnost růstu krystalů a životnost produktu.*
Přečtěte si víceOdeslat dotazSemicorex TaC Coating Wafer Tray musí být navržen tak, aby odolal výzvám extrémní podmínky v reakční komoře, včetně vysokých teplot a chemicky reaktivního prostředí.**
Přečtěte si víceOdeslat dotazSemicorex TaC Coating Plate vyniká jako vysoce výkonná součást pro náročný proces epitaxního růstu a další prostředí výroby polovodičů. Díky řadě vynikajících vlastností může v konečném důsledku zvýšit produktivitu a hospodárnost pokročilých procesů výroby polovodičů.**
Přečtěte si víceOdeslat dotazSemicorex LPE SiC-Epi Halfmoon je nepostradatelným přínosem ve světě epitaxe a poskytuje robustní řešení výzev, které představují vysoké teploty, reaktivní plyny a přísné požadavky na čistotu.**
Přečtěte si víceOdeslat dotazSemicorex CVD TaC Coating Cover se stává kritickou technologií umožňující v náročných prostředích v rámci epitaxních reaktorů, vyznačujících se vysokými teplotami, reaktivními plyny a přísnými požadavky na čistotu, vyžadující robustní materiály pro zajištění konzistentního růstu krystalů a zabránění nežádoucím reakcím.**
Přečtěte si víceOdeslat dotaz