Držák nosiče leptu pro leptání PSS

Držák nosiče leptání společnosti Semicorex pro leptání PSS je navržen pro nejnáročnější aplikace epitaxního zařízení. Náš ultračistý grafitový nosič vydrží drsná prostředí, vysoké teploty a drsné chemické čištění. Nosič potažený SiC má vynikající vlastnosti pro rozvod tepla, vysokou tepelnou vodivost a je cenově výhodný. Naše produkty jsou široce používány na mnoha evropských a amerických trzích a těšíme se, že se staneme vaším dlouhodobým partnerem v Číně.

Odeslat dotaz

Popis výrobku

Ve společnosti Semicorex jsme navrhli držák nosiče leptání pro leptání PSS speciálně pro drsná prostředí potřebná pro epitaxní růst a procesy manipulace s plátky. Náš ultračistý grafitový nosič je ideální pro fáze nanášení tenkých vrstev, jako je MOCVD, epitaxní susceptory, palačinkové nebo satelitní platformy a zpracování waferů, jako je leptání. Nosič potažený SiC má vysokou tepelnou odolnost a odolnost proti korozi, vynikající vlastnosti distribuce tepla a vysokou tepelnou vodivost. Naše produkty jsou cenově výhodné a nabízejí dobrou cenovou výhodu.

Kontaktujte nás ještě dnes a zjistěte více o našem držáku na leptání pro leptání PSS.

Parametry držáku nosiče leptu pro leptání PSS

Hlavní specifikace povlaku CVD-SIC
Vlastnosti SiC-CVD
Krystalická struktura	FCC Î² fáze
Hustota	g/cm³	3.21
Tvrdost	Tvrdost podle Vickerse	2500
Velikost zrna	Î¼m	2~10
Chemická čistota	%	99.99995
Tepelná kapacita	J·kg-1 ·K-1	640
Teplota sublimace	℃	2700
Felexurální síla	MPa (RT 4-bodové)	415
Youngův modul	Gpa (4pt ohyb, 1300â)	430
Tepelná expanze (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Tepelná vodivost	(W/mK)	300